Spécifications

-------------------
Heures de travail
Heures sous tension
État bon
Aux normes locales ---------
Statut visible

description

Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur

Parfait état. Date de 2017.
Livré avec :
- pompe à vide Agilent IDP3A01 et pompe d'évacuation
- ordinateur de controle, logiciel et code utilisateur.
- manuel



L'AS-Micro est un processeur thermique rapide compact de table de trois pouces avec capacité de vide dédié aux applications de recherche. Il peut traiter des substrats de quelques millimètres carrés jusqu'à un diamètre de 3 pouces ou carré. Des suscepteurs sont disponibles en option pour contenir de petits échantillons et pour traiter des substrats à faible absorption infrarouge.

La chambre de traitement en tube de quartz avec des brides en acier inoxydable et un four tubulaire à lampes halogènes infrarouges permet d'effectuer des traitements jusqu'à 1250°C avec des taux de rampe très rapides (> 250°C/s). Le régulateur de température ultramoderne assure un contrôle précis de la température.

La porte à mouvement horizontal avec plateau en quartz facilite l'accès pour le chargement et le déchargement des plaquettes et l'installation des thermocouples.

Caractéristiques
Le four offre le taux de rampe le plus élevé jusqu'à 250°C/s pour les plaquettes de 2 pouces.
Plage de température : RT à 1250°C
Vitesse de rampe jusqu'à 250°C/s sur un substrat de silicium de 2 pouces de diamètre, 200°C/s sur un substrat de 3 pouces.
Possibilité de mélange de gaz avec des régulateurs de débit massique
Plage de vide : Atm à 10-2 Torr (10-6 Torr avec pompe turbo en option)
Contrôle de la température par thermocouple avec régulateur de température numérique PID rapide
Contrôle complet par PC avec logiciel compatible Windows

pour laboratoire electrochimie et nanomatériaux semi conducteur / semiconductor / wafer

Veuillez noter que cette description a pu être traduite automatiquement, merci de nous contacter si vous avez besoin d'informations complémentaires. Les informations de cette annonce ne sont données qu'à titre indicatif. Nous recommandons de les vérifier avec le vendeur avant tout achat


Type de client Revendeur
Actif depuis 2015
Offres en ligne 63
Dernière activité 30 novembre 2024

Description

Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur

Parfait état. Date de 2017.
Livré avec :
- pompe à vide Agilent IDP3A01 et pompe d'évacuation
- ordinateur de controle, logiciel et code utilisateur.
- manuel



L'AS-Micro est un processeur thermique rapide compact de table de trois pouces avec capacité de vide dédié aux applications de recherche. Il peut traiter des substrats de quelques millimètres carrés jusqu'à un diamètre de 3 pouces ou carré. Des suscepteurs sont disponibles en option pour contenir de petits échantillons et pour traiter des substrats à faible absorption infrarouge.

La chambre de traitement en tube de quartz avec des brides en acier inoxydable et un four tubulaire à lampes halogènes infrarouges permet d'effectuer des traitements jusqu'à 1250°C avec des taux de rampe très rapides (> 250°C/s). Le régulateur de température ultramoderne assure un contrôle précis de la température.

La porte à mouvement horizontal avec plateau en quartz facilite l'accès pour le chargement et le déchargement des plaquettes et l'installation des thermocouples.

Caractéristiques
Le four offre le taux de rampe le plus élevé jusqu'à 250°C/s pour les plaquettes de 2 pouces.
Plage de température : RT à 1250°C
Vitesse de rampe jusqu'à 250°C/s sur un substrat de silicium de 2 pouces de diamètre, 200°C/s sur un substrat de 3 pouces.
Possibilité de mélange de gaz avec des régulateurs de débit massique
Plage de vide : Atm à 10-2 Torr (10-6 Torr avec pompe turbo en option)
Contrôle de la température par thermocouple avec régulateur de température numérique PID rapide
Contrôle complet par PC avec logiciel compatible Windows

pour laboratoire electrochimie et nanomatériaux semi conducteur / semiconductor / wafer

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A propos de ce vendeur

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